В России разработан план создания отечественного литографа, который будет дешевле и проще инструментов ASML

Институт физики микроструктур РАН представил "Новую концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии". Документ описывает создание литографической установки, которая должна быть экономичнее и проще в производстве, чем оборудование ASML, при сохранении эффективности.

Ключевые особенности российского подхода:

• Уменьшение рабочей длины волны с 13,5 до 11,2 нм

• Замена оловянного лазерно-плазменного источника на ксеноновый

• Использование кремнийорганических резистов

По сравнению с TWINSCAN NXE:3600D от ASML, российский литограф будет иметь меньшую производительность (примерно в 2,7 раза) из-за использования лазера мощностью 3,6 кВт. Однако разработчики считают такую производительность достаточной для небольших производств.

Разработка разделена на три этапа:

1. Создание критических технологий и экспериментального образца

2. Разработка опытного образца с производительностью более 60 пластин 200 мм в час

3. Создание промышленного образца для пластин 300 мм

По мнению руководителя проекта Николая Чхало, попытка копирования литографа ASML нецелесообразна как с технической, так и с экономической точки зрения. Вместо этого предлагается альтернативный подход, который сделает технологию более доступной по цене оборудования и эксплуатации.

Конкретные сроки реализации этапов в документе не указаны.